Полірування деталей оптотехніки

На основі аналізу механізму полірування неметалевих матеріалів показано, що видалення оброблюваного матеріалу і формування нанопрофілю обробленої поверхні є наслідком видалення з неї наночастинок шламу, яке відбувається в результаті ферстерівського резонансного перенесення енергії (FRET) від частинок дисперсної фази полірувальної дисперсної системи до оброблюваної поверхні в мікрорезонаторі, що утворюється поверхнями оброблюваного матеріалу і частинки полірувального порошку. Система «оброблювана поверхня – дисперсна система – поверхня притира» представлена як квантовий генератор наночастинок, потужність генерації яких залежить від добротності мікрорезонатора і визначає показники полірування. Показано, що під час полірування оптичних поверхонь деталей з полістиролу, поліметилметакрилату та аллілдігліколькарбонату за допомогою полірувальної дисперсної системи з мікро- та нанопорошків зняття оброблюваного матеріалу відбувається внаслідок багатомодового FRET між енергетичними рівнями частинок полірувального порошку і оброблюваного матеріалу на частотах, для яких спектральне розділення між ними має мінімальні значення. Встановлено, що швидкість зняття оброблюваного матеріалу лінійно зростає за збільшення добутку результуючої добротності мікрорезонатора на сумарний час життя збудженого стану кластерів оброблюваної поверхні на відповідних частотах